接触模式原子力显微镜

在接触模式原子力显微镜AFM中，尖端与表面接触进行扫描，激光从悬臂反射。在光电二极管上检测光的位置。通过电压调节悬臂高度来保持恒定位置。电压是输出信号，与地形有关。

攻丝模式原子力显微镜

在攻丝模式下，悬臂是振荡的。尖端和样品之间的力会导致振荡变化。反馈环路通过施加到压电陶瓷元件的电压来调整尖端高度来保持恒定的振荡幅度。施加的电压与形貌有关，对表面和尖端的损坏最小。攻丝模式原子力显微镜AFM是形貌成像的常见模式。

AFM理想用途

• ◆ 评估晶圆上的晶圆或薄膜（例如SiO2，GaAs，SiGe等）加工前后；

• ◆ 研究对隐形眼镜，导管和涂层支架等生物医学设备（如血浆处理、等离子体处理）的加工效果；

• ◆ 检查表面粗糙度对粘附力的影响；

• ◆ 评估加工/图案化晶圆上的沟槽形状/清洁度；

• ◆ 确定形态是否是表面雾霾的来源；

• ◆ 绘制激活载波的分布图；

• ◆ 表征导电薄膜的均匀性；

• ◆ 测量图案化晶圆上域之间的台阶高度；

• ◆ 三维表面形貌成像，包括表面粗糙度，晶粒尺寸，台阶高度和间距；

• ◆ 其他样品特性成像，包括磁场，电容和摩擦；

• ◆ 相位成像可以研究表面的物理特性，例如模量和附着力。

AFM优势强项

• ◆ 首先，量化表面粗糙度；

• ◆ 其次，可以完整分析300mm以下的晶片；

• ◆ 第三，高空间分辨率；

• ◆ 最后，对导电和绝缘样品进行成像；

AFM缺点限制

• ◆ 扫描范围限制：z方向横向（xy）为90µm，z方向垂直扫描5µm

• ◆ 极端粗糙或形状奇特的样品的潜在问题

• ◆ 可能提示会引起错误

• ◆ 许多电磁模式仅限于定性或半定量测量

AFM技术规格

1. 1.检测到的信号：

2. 地形

3. 2.垂直分辨率：

4. 0.1Å
   

5. 3.成像/映射：

6. 是

7. 4.横向分辨率/探头尺寸：

8. 2-150nm

9. 5.高级分析模式：

• ◆ SCM：扫描电容显微镜

• ◆ C-AFM：导电原子力显微镜

• ◆ TUNA：隧道式原子力显微镜

• ◆ KPFM：开尔文探针力显微镜

• ◆ SSRM：扫描扩散电阻显微镜

• ◆ EFM：静电力显微镜

• ◆ MFM：磁力显微镜

• ◆ PFQNM：峰值力定量纳米力学显微镜

AFM相关资源

    原子力显微镜聚合物表面改性

    纤维素生物膜的流体成像AFM

    AFM的生物医学应用：成像水凝胶涂层

AFM应用案例

三维形貌图

AFM是一种具有原子级高分辨的新型仪器，可以在大气和液体环境下对各种材料和样品进行纳米区域的物理性质包括形貌进行探测，获得表面形貌结构及表面粗糙度等信息。我们擅长项目有：QNM-杨氏模量图、力曲线（Force curve）、KPFM（表面电势）、PFM（压电力显微镜）、PFM+写畴/写回字（压电力显微镜）、C-AFM（导电力显微镜）、PeakForce TUNA（导电力显微镜）、EFM（静电力显微镜）、MFM（磁力显微镜）、LFM（侧向力显微镜）等，总之，康派斯实验室可以提供原子力显微镜AFM服务，以解决您的材料相关问题。