材料中未知或不需要的杂质通常会给材料专家或工程师带来“刺激性”干扰。因此，首选更高纯度的材料，以消除可能影响性能、可靠性、寿命和安全性的不良缺陷。另一方面，故意在材料中添加杂质会引入以前无法通过电子、光子、声子、原子和分子评估的能级，从而为发现新的特性定制现象创造巨大的机会。辉光放电质谱GDMS是杂质分析的强大工具。

GDMS理想用途

• ◆ 先进材料（金属、合金、石墨、电子材料、氧化物和陶瓷）的全面调查分析

• ◆ 纯度认证高达 99.99999% （7N）

• ◆ 特定深度的痕量和超迹线分布测量

• ◆ 从有限数量的样品中追溯未知物

• ◆ 颗粒材料和工程涂料的化学表征

GDMS优势强项

• ◆ 全面调查除H以外的所有稳定同位素

• ◆ 十亿分之一的灵敏度

• ◆ 有限的矩阵效应

• ◆ 线性校准

• ◆ 鲁棒性

• ◆ 高灵敏度分析物的深度特定分布测量

GDMS缺点限制

• ◆ 无液体

• ◆ 真空稳定性

GDMS技术规格

• 检测到的信号：质量分辨正离子

• 涵盖的元素：元素的所有稳定同位素，H除外

• 灵敏度：十亿分之一或 ppbw

• 典型采样区域：50-80 mm2

GDMS相关资源

• 辉光放电质谱（GDMS）网络研讨会