ICP-OES VS ICP-MS：两种技术比较

ICP-OES（电感耦合等离子体-发射光谱法）测量分析物在元素特定特征波长处发出的光。检测器测量发射光的强度，然后通过与校准标准进行比较来评估样品中该特定元素的浓度。

ICP-MS（电感耦合等离子体质谱）测量电感耦合等离子体源中产生的分析物离子的强度。等离子体中产生的离子通过其质荷比进行分离，从而能够鉴定和定量存在的分析物。ICP-MS为各种元素提供卓越的灵敏度（即低检测限）。

激光剥蚀电感耦合等离子体质谱

在激光剥蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)，通过用脉冲激光束剥蚀固体样品来直接分析样品。产生的气溶胶通过气流输送到电感耦合氩等离子体（ICP）的核心。ICP-MS中的等离子体用于产生离子，然后将其引入质量分析仪。然后可以识别和测量未知样品的成分。

对于激光剥蚀，可以烧蚀任何类型的固体样品进行分析；样品量限制很少，也没有样品制备程序。使用激光剥蚀的化学分析需要的样品量（微克）比溶液ICP-MS（毫克）所需的样品量（微克）少。根据分析测量系统的不同，对于该技术，非常少量的样品可能就足够了。此外，聚焦激光束允许对固体样品中的异质性进行空间表征，在横向（x，y）和深度（z）方向方面通常具有微米分辨率。