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X射线反射率（XRR）是一种与X射线衍射（XRD）相关的技术，正在成为表征薄膜和多层结构的广泛使用的工具。非常小的衍射角的X射线散射可以表征厚度低至几十Ǻ的薄膜的电子密度分布。通过模拟反射率图案，可以获得结晶或非晶薄膜和多层膜的厚度、界面粗糙度和层密度的高精度测量。与光学椭圆偏振法不同，不需要关于薄膜光学特性的先验知识或假设。
产品详情
◆ 高精度薄膜厚度和密度测量
◆ 测量薄膜或界面粗糙度
◆ 测量晶圆上的薄膜均匀性
◆ 测量低介电涡薄膜的孔密度和孔径
◆ 整个晶圆分析（最大 300 mm）以及不规则和大样品
◆ 全晶圆映射
◆ 导体和绝缘体分析
◆ 无需了解薄膜的光学特性即可准确测定厚度
◆ 样品制备要求最低或无要求
◆ 所有分析的环境条件
◆ 为了提供准确的密度结果，需要对预期的基本样品结构有一定的了解（例如，存在的层的顺序及其近似组成）
◆ 表面和界面粗糙度必须低于~5 nm才能确定厚度。表面粗糙度和密度仍可在较粗糙的样品上测定
最大薄膜厚度 ~300 nm
检测到的信号：反射 X 射线
检测到的元素：没有专门检测元素，而是测量层的电子密度。这与层组成的知识相结合，可以精确确定层厚度和密度
检测限：最小层厚15-100 Ǻ
深度分辨率：测量厚度的~1%
成像/映射：是的
横向分辨率/探头尺寸： ~1 cm
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